Investigadores de ASML Holding dijeron que encontraron una forma de aumentar la potencia de la fuente de luz en una máquina clave para la fabricación de chips, con el fin de producir hasta un 50% más de chips para finales de la década y ayudar a la empresa holandesa a mantener su ventaja frente a sus rivales emergentes de Estados Unidos y China.
ASML es el único fabricante mundial de máquinas comerciales de litografía ultravioleta extrema (EUV, por su sigla en inglés), una herramienta fundamental para fabricantes de chips como Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC), Intel y otros en la producción de chips avanzados.
"No se trata de un truco de magia ni nada por el estilo que funciona por un corto tiempo", dijo Michael Purvis, tecnólogo jefe de ASML para su fuente de luz EUV, en una entrevista.
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"Es un sistema que puede producir 1.000 vatios con los mismos requisitos que se pueden ver en las instalaciones de un cliente", añadió, durante una conversación en oficinas de la empresa en California, cerca de San Diego.
Las máquinas EUV son tan importantes para la producción de chips que los Gobiernos estadounidenses de ambos partidos han colaborado con los líderes holandeses para evitar que se envíen a China, lo que ha impulsado a este país a poner en marcha una iniciativa local para fabricar sus propias máquinas.
En Estados Unidos, al menos dos empresas emergentes, Substrate y xLight, han conseguido cientos de millones de dólares para desarrollar competidores estadounidenses de la tecnología de ASML, y xLight recibió financiación del Gobierno del presidente Donald Trump.
Con el avance tecnológico revelado el lunes, que se da a conocer por primera vez, ASML pretende distanciarse de cualquier posible rival mejorando el aspecto tecnológicamente más desafiante de las máquinas.
Se trata de la búsqueda de la generación de luz EUV con la potencia y las propiedades adecuadas para producir chips en grandes cantidades. Los investigadores de la empresa han encontrado una forma de aumentar la potencia de la fuente de luz EUV de los 600 vatios actuales a 1.000 vatios.
La principal ventaja es que una mayor potencia se traduce en la capacidad de fabricar más chips por hora, lo que contribuye a reducir el costo de cada uno.
Los chips se imprimen de forma similar a una fotografía, en la que la luz EUV se proyecta sobre una oblea de silicio recubierta con productos químicos especiales llamados fotorresistentes. Si la luz EUV es más potente, las fábricas de chips necesitan tiempos de exposición más cortos.
"Queremos asegurarnos de que nuestros clientes puedan seguir utilizando EUV a un costo mucho menor", dijo a Reuters Teun van Gogh, vicepresidente ejecutivo de la línea NXE de máquinas EUV de ASML.
Con información de Reuters
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